吸附墊的應(yīng)用

吸附墊，主要用于半導(dǎo)體硅晶體材料，寶石晶體片，硅片外延片等產(chǎn)品的單面拋光，屬于電子材料 的拋光裝置。這是一種圓形的、由多層樹脂材料組成的復(fù)合結(jié)構(gòu)、硅片用水(或研磨液)粘貼在鑲嵌層圓孔內(nèi)的吸附膜上。采用本實(shí)用新型，可對(duì)硅片，藍(lán)寶石進(jìn)行無蠟拋光，其表面總厚度變化小于6μm，省時(shí)、省力，本實(shí)用新型制造簡單、成本低。
無蠟拋光模板在化學(xué)機(jī)械拋光製程中用于對(duì)晶片的固定;無蠟工藝在加工成本、生產(chǎn)效率都較有蠟工藝有更大的優(yōu)勢(shì)。長期以來，新光速致力于研發(fā)新的工藝技術(shù)，生產(chǎn)新型行業(yè)使用的材料，降低客戶的生產(chǎn)成本，無蠟墊作為新光速主推產(chǎn)品，為客戶節(jié)約了大量 的采購成本，目前新光速提供的無蠟拋光墊是國內(nèi)少有的可以與國外產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)的產(chǎn)品，藍(lán)寶石襯底拋光是一個(gè)成熟的產(chǎn)業(yè)，受制于昂貴的無蠟墊等各類耗材成本，而價(jià)格高企，而目前許多數(shù)客戶都已開始使用新光速提供的無蠟墊，節(jié)約了采購成本和產(chǎn)品成本，不再受制于國外廠商，新光速所生產(chǎn)銷售的無蠟?zāi)０蹇梢愿鶕?jù)客戶拋盤大小定製;新型無蠟拋光模板采用高硬度模板框架,在藍(lán)寶石晶片拋光應(yīng)用的競(jìng)爭(zhēng)力超越其他廠家的模板